btx 47-0003說明書

btx 47-0003說明書(shu)

BTXPRESS CYTOPORATION LOW CONDUCTIVITY MEDIUM T4, 500 ML VOLUME

btxpress細胞培養(yang) 低導電介質t4,500毫升體(ti) 積

先進的電穿孔緩衝(chong) 液設計用於(yu) BTX AgilePulse MAX大容量電穿孔係統，用於(yu) 離體(ti) 或體(ti) 外遞送，RNA，寡核苷酸和siRNA

BTXpressCactoporation®MediaT4是一種先進的電穿孔緩衝(chong) 液，設計用於(yu) BTX AgilePulse MAX大容量電穿孔係統，用於(yu) 離體(ti) 或體(ti) 外遞送，RNA，寡核苷酸和siRNA。低電導率緩衝(chong) 液經過特殊配方，可大限度地減少大體(ti) 積電穿孔過程中溶液的加熱，從(cong) 而實現高轉染效率和高細胞活力。BTXpress Cytoporation Media T4從(cong) 高質量的非動物醫用級試劑中無菌過濾。兩(liang) 種具有不同電導率的製劑可用於(yu) 每種真核細胞類型的宜電導率。可以將緩衝(chong) 液直接稀釋在*生長培養(yang) 基中用於(yu) 電穿孔後細胞培養(yang) 。

特點與(yu) 優(you) 勢

• 針對真核電穿孔應用進行了優化
• 高轉染效率，高細胞活力
• 低電導率意味著小的加熱或電極電弧
• 提供兩種配方
• 生理pH和平衡的滲透壓
• 不含動物產品
• 經過認證的RNase和DNase免費

存儲(chu) 信息

打開後儲(chu) 存在2-8°C。在-20°C至+ 50°C下短期儲(chu) 存（即運輸）7天是可以接受的。內(nei) 容可能在凍結後分開。如果冷凍，請在使用前充分混合。

建議使用

建議使用標準的無菌技術，以避免在使用過程中受到汙染。*，反複洗淨。BTXpressCytofusion®MediumC是一種低電導率培養(yang) 基，專(zhuan) 為(wei) 電融合而設計。痕量的高電導率溶液如PBS或組織培養(yang) 生長培養(yang) 基可破壞融合過程。因此，在融合過程之前用BTXpressCytofusion®MediumC*清洗細胞至關(guan) 重要。對於(yu) 多5 x 107個(ge) 細胞，建議在BTXpressCytofusion®培養(yang) 基C中至少洗滌兩(liang) 次。對於(yu) 超過5 x 107個(ge) 細胞，建議至少洗滌三次。

*清潔電融合室。為(wei) 避免其他離子汙染源，每次使用後清潔電熔室，並用無菌去離子水*衝(chong) 洗。

為(wei) 了大限度地提高細胞融合效率，請在室溫下使用BTXpressCytofusion®MediumC. 終洗滌之前的細胞洗滌可以在4℃下進行。雖然Cytofusion®MediumC無毒，但它不含有長期支持細胞活力的營養(yang) 素。為(wei) 獲得宜效果，請盡量減少細胞懸浮於(yu) BTXpressCytofusion®培養(yang) 基C中的時間。不建議將細胞保留在BTXpressCytofusion®MediumC中，後一次洗滌後超過1小時。

電融合後，BTXpressCytofusion®培養(yang) 基中的細胞可在細胞培養(yang) 基中稀釋，無需洗滌細胞。將五份*培養(yang) 基稀釋至一份BTXpressCytofusion®MediumC的低稀釋度。或者，可以在生長培養(yang) 基中洗滌細胞以在培養(yang) 之前*除去BTXpress Cytofusion？培養(yang) 基C.

警告和免責聲明

如果缺少防篡改密封或瓶子損壞，請勿使用。瓶子損壞或故意篡改可能會(hui) 導致本產(chan) 品受到汙染。使用前檢查產(chan) 品是否清晰。BTXpressCytofusion®培養(yang) 基僅(jin) 用於(yu) 研究和研究目的。它不適合人類使用。根據OSHA危害通信標準29 CFR 1910.1200進行的評估，該產(chan) 品不被視為(wei) 危險品。

應用 轉染